Intel начала инвестиции в немецкую компанию Xtreme Technologies с целью ускорить процесс развития ультрафиолетовой литографии. Xtreme Technologies недавно сообщила, что добилась мощности источника сверхжёсткого ультрафиолетового света в 800 Вт, а в начале исследования инженеры могли похвастаться лишь мощностью лишь в 120 Вт. Однако, этого всё равно не достаточно, чтобы начать массовое производство с EUV-литографией. В этом случае необходима выходная мощность в 1 КВт.
Новый подход, основанный на волнах длиной 13 нм, позволит создавать чипы по 32-нм технологическому процессу. Компания Xtreme Technologies создана Lambda Physik AG и Jenoptik в рамках европейского EUV-проекта More Moore, стартовавшего в начале 2004. Представитель Xtreme заявил, что поддержка Intel позволит добиться отличных результатов в кратчайшие сроки.
Стоит отметить, что Intel уже работает над развитием EUV с Corning. А компания AMD, чтобы не отставать от конкурента, решила вести работу над EUV-литографией вместе с IBM, Infineon и др.
Тематические материалы в статьях:
— Двухъядерные процессоры;
— Intel Centrino Duo: мобильность нового поколения.
