Несколько дней назад одно из нидерландских изданий опубликовало скандальную статью, в которой сообщило о якобы факте кражи одной из технологий компании ASML с целью передать властям в Китае. Компания ASML разрабатывает и выпускает оборудование для производства и тестирования полупроводников, что по определению интересует Китай и не только. Поскольку ASML выстраивает свои производственные отношения с китайскими компаниями, случай воровства технологий китайцами мог вызвать резонанс в обществе. Поэтому производитель литографического оборудования для производства чипов вынужден был официально отреагировать на публикацию, что он и сделал.
Сканер ASML NXE:3300B для EUV-литографии
Согласно заявлению в пресс-релизе компании, отмеченный изданием случай воровства технологии ASML категорически нельзя классифицировать как шпионаж со стороны Китая. Определённые разработки компании действительно были украдены, но произошло это ещё в 2015 году и осуществлено группой американских сотрудников ASML в Калифорнии, среди которых были граждане нескольких наций. После обнаружения несанкционированной утечки данных компания обратилась в следственно-судебные органы США. В ходе разбирательств выяснилось, что преступная группа намеревалась продать похищенное в руки совместной китайской и южнокорейской компании XTAL. Речь идёт о программном обеспечении для изготовления фотошаблонов (масок).
В ноябре 2018 года судебные органы США постановили выплатить компании ASML компенсацию в размере $223 млн. Платить должна была компания XTAL, но она находится в состоянии банкротства, и ASML почти не надеется на получение компенсации. В любом случае нидерландский производитель подчёркивает, что данный случай не имеет отношения к проискам властей Китая или каких-либо компаний из этой страны. Сама ASML выстраивает с китайскими компаниями прочные партнёрские отношения и рассчитывает, например, на широкую поставку в Китай, в том числе новейших сканеров диапазона EUV. Впрочем, AMSL была бы не против увидеть со стороны властей Китая совершенствование законодательства, которое бы усилило защиту интеллектуальной собственности иностранных компаний.
